所以，在深思熟虑之后，任重在清理了手中的多个技术发展路径后，毅然决然地将他的战略目光重新聚焦于电子工业这一至关重要的领域。

尽管当前光刻机技术已取得了突破性进展，迈入了全新的2微米时代，为286芯片的生产孕育了新的生产设备，但在任重那阅尽主世界科技发展史的深邃眼光中，这仅仅是电子工业蓬勃发展的萌芽阶段。

286电脑，在漫长的计算机发展历程中，不过是微不足道的一瞬。它标识着个人电脑从最初的萌芽走向初步的应用，但远未达到技术的巅峰。目前东大方面刚刚研发的光刻机，即便是最新型号，在任重的主世界视角看来，也不过是史前文物般的存在，那些古老的设备在主世界几乎难以寻觅其踪迹，只能在尘封的历史资料中偶尔一窥其貌。

真正引领电子工业步入现代化的光刻机，其发展历程远比想象中复杂而辉煌。

第一代现代化gline光刻机的诞生，这才真正标志着半导体制造技术实现了历史上的第一次飞跃。它们采用了g-line光源，波长为436nm，这一技术革新使得0.8至0.35微米制程的芯片生产成为可能。对应的设备就是第一代现代化接触式和接近式光刻机，为486及以后新型cpu的制造开辟了新的天地。

在早期的cpu制造工艺中，1微米工艺最多就能支撑386级别cpu的生产，而0.8微米制程的成熟，才标志着486时代的到来。若要进一步跨越到586奔腾级别的cpu，制程必须进化至0.35微米，这无疑是半导体制造领域的一次巨大挑战。

然而，就当前亮剑世界中的东大cpu光刻机技术发展而言，它们还远远没有触及现代化光刻机的门槛。

2微米制程，在任重眼中，不过是史前时代的遗物。未来的道路，还有整整四代不同光源光刻机技术的难关等待攻克，每一步都充满了未知与挑战。

第二代光刻机，以i-line为光源，波长缩短至365nm，技术上的进步使得0.8至0.25微米制程的芯片生产得以实现。这一制程水平，在主世界中，对应着奔腾iiicpu的辉煌时代。奔腾iii，作为英特尔公司的一款经典产品，不仅在性能上实现了显著提升，更在半导体制造工艺上树立了新的标杆。

紧接着，第三代光刻机采用了krf光源，波长进一步缩短至248nm，工艺节点提升至180至130nm水平。这一技术革新，为第一代和第二代奔腾4的生产提供了有力支持。180nm制程工艺的第一代奔腾

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