自主可控，正是半导体人心中的痛。

众所周知，顶级的duv开机都要受到监督，让产线加工的东西对某些人透明，从而监控着这些代工企业的生产行为。

“任先生，我们一直在做这方面的工作，原来我们的进展相对比较慢，是因为我们受制于方方面面的约束，版权方面的，资金方面的，人才方面的制约都有，如果我们现在只是研究做技术积累，不急着实现商业方面的回报，那么我们完全可以对这套设备进行替代性研究工作。”

听到任重愿意打钱，陈叔德激动的说道。

任重的话算是直捅在了他肺管子上面了。

“是的，任先生，如果这方面的研究有充沛资金，我们最多几年时间就能把这套生产线设备吃透和平替。”旁边孙山河也激动起来。

他们这些研究者，对于这些芯片业最核心技术和设备研究当然非常感兴趣，因为出成果容易啊。

虽然说这些在对比asml设备来说不值得一提，但是在国内仍然有大量的存在，我们在光刻机这块虽然说有了突破，经过十多年持续投入，最强的已经达到了7nm水平之上，但是我们自主跨出这个制程并不久。

陈叔德他们虽然也参与了部分研究，但是并没有搞过整机，大的成果都是别人的。甚至干出来了一个院士，陈叔德和孙山河他们虽然也是这个行业的资深专家，但是距离院士来说还有点远。

对于他们这些人来说，如果可以自由选择研究方向，他们当然更愿意选择光刻机的主机来进行研究。

沿着当前这套设备研究演进到了65nm对于他们来说不是特别难的事情，现在国内的配套也能支撑下来了。

重要的是在吃透这台光刻机主机后，后面更换成为浸润式技术路线，那么从45nm、35nm、28nm这些技术节点演化下去，毕竟光刻机技术发展到现在，相关浸润式原理和基本的技术工艺这些多多少少扩散出来了不少，如果陈教授和孙教授他们在有充分投入的情况下，研究实现用水来替代空气这个关键技术后，就能实现14nm/10nm这两个关键性的技术节点，站在国内制程研究的前沿。

想想这些都他们都很兴奋。

(本章完)