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第502章 芯片技术的新瓶颈

黎明光学研究技术中心。

方光圻教授面对最新的步进式光刻机项目的困境,眉头完全皱在了一起。

“屠教授,我们的光学物镜系统现在还是不能达标,问题究竟能不能依靠我们自己解决?”方光圻教授知道负责光学部份的屠教授团队已经尽力,但是拿出来东西精度仍然没法达到新的2微米级别光刻机l-100样机的需要,这台以gca的步进式光刻机dsw4800为蓝本的样机。

任重已经给大家带来了相当充分的设计资料,对于原理及原理的论证早就完成了,甚至也完成了3微米样机l50的开发,成功投入到现实的生产中,把8080芯片的生产良品率提升了一个新的高度,直接把芯片成本打下了一个数量级,从几百美刀级别降低到了几十美刀。

而且用l-50光刻机生产出了更加复杂的8086和8088芯片。

但是在进一步提升的过程中,这套系统却很难稳定达到2微米的加工级别。

而按照芯片设计研究中心那边的设计,下一代芯片80286需要采用2微米以下的新工艺设备才能生产,按照设计工程师的初步估算,新型cpu芯片的晶体管数量已经从8086的2.9万个膨胀到了空前惊人的13万个以上晶体管。

这就逼迫光刻机研究不得不进一步挖潜。

“方教授,从我们目前的光学技术能力来说,现在要进一步提升难度已经非常大了,虽然我们不想承认,但是事实上现在的光学物镜已经是我们技术的极限,如果要进一步提升,恐怕只有用时间来慢慢打磨提高了,在这方面相比蔡司这些顶级光学公司来说我们的起步基础实在太差了。”屠教授是从三德子归国的人员,曾经在三德子的蔡司工作过。

正因为广揽天下人才回来,方光圻领导的光学研究所才会快速扩张发展成为黎明光学研究技术中心这样一个数千人的大研究机构,并且从单纯光学设备研究开始承担起来几代光刻机的研究任务。

从最初的接触式光刻机开始,到发射式光刻机的研究,方光圻这一生才走了一半多一点,他们就已经走到了这个星球光学设备研究的巅峰。

然而这一切都是靠着任重直接开挂,将设备最为核心的设计问题拿出来后,他们按照这些设计努力去实现。

现在走到了极致状态后,曾经具有的一些短板就体现出来了。

虽然说光刻机光学镜头的制造原理并不复杂,但要做出超高精密度的光刻镜头,在技术和工艺两方面均有非常大的难度。在技术方面,大数值孔径(na

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